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二氧化硅分析裝置
- 產(chǎn)品型號(hào)：SLIA-2000
- 更新時(shí)間：2024-03-18
- 產(chǎn)品介紹：二氧化硅分析裝置自動(dòng)連續(xù)監(jiān)測(cè)鍋爐水中二氧化硅的濃度和半導(dǎo)體清洗用超聲波純水中二氧化硅的濃度。檢測(cè)速度快，重現(xiàn)性高，既可以檢測(cè)低濃度二氧化硅，也可檢測(cè)高濃度二氧化硅，可有效提高鍋爐的啟動(dòng)時(shí)間，強(qiáng)化半導(dǎo)體和化工領(lǐng)域的質(zhì)量管理。
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產(chǎn)品介紹
二氧化硅分析裝置
自動(dòng)連續(xù)監(jiān)測(cè)鍋爐水中二氧化硅的濃度和半導(dǎo)體清洗用超聲波純水中二氧化硅的濃度。檢測(cè)速度快，重現(xiàn)性高，既可以檢測(cè)低濃度二氧化硅，也可檢測(cè)高濃度二氧化硅，可有效提高哦啊鍋爐的啟動(dòng)時(shí)間，強(qiáng)化半導(dǎo)體和化工領(lǐng)域的質(zhì)量管理。
測(cè)量范圍：0～10ug/100ug/L、0～50ug/500ug/L、0～100ug/1000ug/L、0～200ug/2000ug/L、0～0.5mg/5mg/L
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自動(dòng)連續(xù)監(jiān)測(cè)鍋爐水中二氧化硅的濃度和半導(dǎo)體清洗用超聲波純水中二氧化硅的濃度。檢測(cè)速度快，重現(xiàn)性高，既可以檢測(cè)低濃度二氧化硅，也可檢測(cè)高濃度二氧化硅，可有效提高哦啊鍋爐的啟動(dòng)時(shí)間，強(qiáng)化半導(dǎo)體和化工領(lǐng)域的質(zhì)量管理。
測(cè)量范圍：0～10ug/100ug/L、0～50ug/500ug/L、0～100ug/1000ug/L、0～200ug/2000ug/L、0～0.5mg/5mg/L